用于光罩对准器的紫外线测量装置（光刻）。/UV sensors for mask aligners (lithography)

光罩对准器是一种精密的机床，用于在半导体制造过程中把图案转移到晶圆或衬底上；这些图案的尺度是微米和纳米的。图案（结构）是用影子转移法创建的，其中要打印的图案（光罩）被放在光源和要图案化的基片（晶圆）之间。被图案化的衬底首先被涂上光敏材料（光阻），然后这种材料对从阴影图像投射的光产生反应。然后使用特定的化学品对所产生的图案进行显影。
这个过程通常被称为光刻技术，这种微细加工技术的更多细节在另一份文件《光刻技术基础》中有所介绍[1]。
掩膜对准器使光刻技术能够用于生产半导体设备，如晶体管、传感器和医疗部件等。除了用光刻胶均匀地涂在基片上的方法外，掩膜对准器对光刻工艺至关重要。光罩对准器用于将涂有光刻胶的基材精确地对准含有待制图案结构的光罩，然后用光照射基材，将所需的图案转移到基材上。在光检测器易受温度变化影响的应用中，如在半导体光刻中使用的紫外光罩对准器，光检测器的温度系数必须被视为一个可能的误差源。目前许多掩膜对准器采用一个强大的汞灯，发出高水平的紫外线，使基片上的光敏材料（光刻胶）曝光。根据所使用的光刻胶，光线应在宽带范围内传输，或在特定的光谱G：436纳米，H：405纳米或I：365纳米。
赢得汞灯青睐的另一种选择是使用紫外线LED阵列。这些LED包含一些在G、H或I线波长上发光的LED，或所有这三种的组合，以产生与汞灯类似的宽带光谱。(插图-什么是掩膜对准器)

Gigahertz Optik GmbH生产许多不同配置的紫外线滤光片辐射计，用于经典的光谱宽带紫外线灯，如中压和高压汞蒸汽灯或掩膜对准器中的低压灯。这些辐射计是与我们生产光罩对准器和其他光刻设备的客户协调开发的。这往往导致我们成为一个具有私人标签业务安排的OEM供应商。我们提供独特的定制解决方案，如电子装置内置的温度校正功能，可以测量温度并相应校正辐照度读数。

我们还提供用于测量不同LED波长的辐照度的紫外线辐射计和提供波长和强度信息的光谱辐射计。紫外线滤光片辐射计的优点包括有利的价格/性能比，根据需要采用扁平的低轮廓探测器设计，快速的测量时间和坚固性。分光辐射计不局限于特定的光谱带通，因此它们的用途更广，特别是在研究使用中更有用。

• BTS256-UV 无绳平坦光谱辐射仪--四种型号的输入光学仪器
• RCH-XXX系列高温和紫外线辐照度的紫外线固化检测器
• PLCD 检测器/放大器 - 客户配置 - (4-20) mA 或 (0-20) mA for PLC
• MDC-4-UV-BLUE 智能整体检测器，用于LED的波长检测

我们提供带滤光片校正探测器的紫外辐射计用于经典光谱宽带紫外灯，如中压汞蒸气灯或掩模对准器的低压灯。在此，我们依靠与该领域的主要客户合作的几十年的经验。通常情况下，我们也作为带有客户标志的OEM供应商。由于LED光源的使用越来越多，我们也提供用于测量不同LED波长的辐照度的紫外辐射计以及光谱测量系统（spectroradiometers） 。紫外辐射计的优势来自于其良好的性价比、扁平的设计、较短的测量时间以及其坚固性。分光辐射计的测量在很大程度上与LED的光谱范围无关。我们很乐意与您合作，为您找到最佳解决方案，我们也很乐意支持OEM标签。

参考文献

[1] Lithography Basics